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반도체 및 전자 산업 청정실 솔루션

2025-07-31

에 대한 최신 회사 뉴스 반도체 및 전자 산업 청정실 솔루션

독특 한 요구 사항 과 표준

극심 한 청결성 요구: ISO 5~7등급 (클래스 100~10,000등급) 의 지배를 받으며, ≥0.1μm의 입자를 제어하기 위해 ISO 4등급 (클래스 10) 을 필요로 하는 고급 포장 영역이 있다.
다차원 제어: 동시에 온도 (20-24°C±0.1°C), 습도 (40-50%±2%), 진동 (≤50μm/s) 및 정전력 (≤100V) 을 관리합니다.
국제 표준: 각기 다른 생산 단계 사이의 엄격한 공정 격리 요구 사항과 함께 SEMI S2, ISO 14644 및 전자제품의 GMP를 준수해야합니다.

핵심 솔루션

공기 정화 시스템

필터레이션 계층: 사전 필터 (G4) + 중효율 필터 (F9) + 하위효율 필터 (H13) + 터미널 ULPA 필터 (≥0.12μm 입자에 대한 99.999% 효율)
공기 흐름 설계: 전체 커버리지 원방향 흐름 (0.45m/s±20%) 중추 영역에서 공기 변경 속도는 최대 500 번 / 시간입니다.
압력 조절: 교차 오염을 방지하기 위해 기울기 압력 차이 (접근 구역 사이 ≥5Pa)

오염 통제 조치

재료 관리: 들어오는 물품에 대한 에어클로크, 전용 휴고 및 청소 절차, 그리고 TOC ≤10ppb의 초순수 (18.2MΩ·cm)
표면 처리: 용접된 스테인레스 스틸 벽 (304/316L), 매듭 없는 PVC 바닥, 실리콘 없는 밀착제.
화학적 통제: 가산화물 제거 효율 ≥99%를 가진 에치링 프로세스의 지역 배기가스 시스템

린 운영 전략

지능형 모니터링: 실시간 입자 카운터, 온도/습도 센서, IoT 기반 중앙 제어 시스템.
에너지 최적화: 열 회수 장치 (에너지 절약 ≥30%), 변주 주파수 팬 및 LED 청정실 조명.
유지보수 프로토콜: 분기 HEPA/ULPA 필터 무결성 검사, 월간 공기 흐름 속도 검증 및 연간 종합 성능 검증.

미래 경향

소형화: 3nm 및 더 작은 프로세스 노드에 적응하기 위해 ISO 3 (클래스 1) 청정실로의 개발.
친환경 혁신: 저VOC 소재의 채택 및 재생 에너지 통합.
디지털 전환: 인공지능 기반 예측 유지보수 및 가상 운용을 위한 디지털 트윈

반도체 청정실은 극도의 청결성, 공정 안정성, 그리고 운영 효율성의 균형을 필요로 합니다.그리고 지능형 관리 시스템, 이 중요한 시설은 고성능 전자 부품의 생산을 지원합니다.

광둥성 광저우시 판위구 스치진 용산촌 용펑로 23번지 4동 102호 E-mail: sales01@gzkunling.com Tel: +8613316272505 Tel: +8613316272505

최대 연구 개발 및 생산 Prefab Cleanroom 중국 공급업체

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